近日，国内原子层沉积(ALD)技术领域的领军企业 —— 原速科技宣布完成 B + 轮融资。作为专注于 ALD 系统设计与工艺研发的高科技企业，其凭借 "设备设计 + 工艺开发 + 技术咨询" 的一体化能力，已在柔性显示、光学镀膜、太阳能电池、锂电池等高精尖领域实现深度应用。此次融资将为其核心技术突破与全球市场拓展注入新动能，持续推动薄膜材料制备产业的技术升级。
自 2017 年成立以来，原速科技始终聚焦前沿薄膜材料的研发与产业化，以原子层沉积这一可实现单原子层精准控制的先进技术为核心，为下游产业提供从材料配方到设备定制的全链条解决方案。例如，在柔性显示领域，其研发的超薄防护薄膜可显著提升屏幕耐弯折性与耐磨性;在锂电池领域，通过 ALD 技术制备的电极修饰层能有效提高电池循环寿命与安全性，这些创新应用已成为推动相关产业升级的关键支撑。
据了解，原速科技此前已完成 B 轮融资，本轮融资由亚米新融与前海母基金联合投资。资本的持续加码，不仅彰显了市场对 ALD 技术产业化前景的认可，更将加速原速科技在核心设备国产化、工艺专利布局、全球客户服务网络建设等方面的步伐。未来，随着技术迭代与应用场景的持续拓展，原速科技有望进一步巩固在薄膜材料制备领域的领先地位，为我国高端制造产业突破关键材料瓶颈贡献力量。
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